多晶硅片等离子刻蚀清洗设备干法刻蚀方法因其产生的离子密度高，尼龙料附着力差是怎么回事蚀刻均匀，蚀刻侧壁垂直度大，表面光洁度高，可以清除表面杂质而逐渐被广泛应用于半导体加工技术。 现代半导体技术的发展对蚀刻的要求越来越高，多晶硅片等离子刻蚀清洗设备满足了这一要求。设备的稳定性是保证生产过程稳定、重复性的关键因素之一。
图1-1 电感耦合等离子体清洗机放电示意图电容耦合式（Capacitance Coupled Plasma）等离子体清洗机CCP的工作原理与ICP不同（如图1-2所示），尼龙料附着力差在CCP反应器中，将两极板与射频电源相连接，并在两平行金属极板之间通入气体，当施加的电压大到可以击穿所通的气体，电流就会在两金属极板之间流动，造成气体放电的现象，从而产生了等离子体。
等离子清洗技术在电子行业的应用已经非常成熟，尼龙料附着力差其阶段逐年增加，国内展览空间大，前景诱人，随着人们生活水平的不断提高，消费产品的数量也越来越高，此外，随着科技的不断发展，新材料的出现，越来越多的科研机构和企业已经意识到等离子清洗技术的重要性，相信在不久的将来，等离子清洗技术将越来越受欢迎，活跃在人们的视野中。1)电子产品在填充前需要经过等离子清洗技术的活化，否则产品表面的密封能力无法得到保证。
现有的高温合金(如高温镍合金的极限使用温度为1075℃)和冷却技术难以满足设计要求，尼龙料附着力差是怎么回事解决这一问题的方法是在高温下的零件上喷涂热障涂层，防止传热，防止基板金属温度升高或降低基板的加热温度等。
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它的激发氧原子比普通氧原子更活跃，能氧化污染润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物，将其转化为二氧化碳气体和水。同时，等离子清洗机的射流还具有机械冲击力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物快速从玻璃表面分离出来，实现高效清洗效果。离子清洗机清洗玻璃表面层，除了机械作用外，主要是等离子体中活性氧、激发态Ar和氧分子被激发与氧分子碰撞而分解的化学作用。激发态氧原子在润滑剂和硬脂酸之间被污染。
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