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电芯plasma清洁设备

(d)原料表面层的功能仅涉及纳米级的处理,电芯plasma清洗设备(e)处理温度低,对原料表面无损伤,常用样品处理后能长时间保持良好效果。根据客户需求配置管道生产计划(3)产品结构等离子体设备主要由高压励磁主机电源、等离子体发生器喷嘴和自动控制系统组成。A、等离子设备高压激励主机电源:等离子的产生必须采用高压激励,常压等离子设备采用中频电源激励,频率为10-40khz。高电压4-10kV,可根据样品实际情况调整参数达到效果。

压合速度:快160mm/s,电芯plasma清洗设备检测速度:0.1-10mm/s,压合速度:0.1-5mm/s6。设备最大开启高度:根据产品特点定制。压头与下工作面的相对平行度:≤0.02mm/ mm8。压头移动时相对于下工作面的垂直精度:0.02 mm/mm以内9。压力安装可调行程:0-200mm,可控,重复精度:±0.01mm10。压力显示值与实际压力误差:1%。

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较小的电极间距可以将等离子体限制在狭窄的区域内,从而获得更高的等离子体密度,实现更快的清洗速度。随着清洗速度的增大,间距逐渐减小,均匀性却逐渐增大,电极的尺寸通常决定了等离子体系统的整体容量,等离子体清洗系统中电极平行分布,电极通常用作托盘,较大尺寸的电极可以清洗更多的元件,提高设备效率。

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10、应用范围广,净化功率高,特别适用于其他方式处理多组分恶臭气体,如化工、制药等行业。此外,低温等离子体废气处理设备占地面积小;电子能量高,可以简单地与所有恶臭气体分子相互作用;运行成本低;响应快,停止很快,随用随开。

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因此,这个设备的设备成本不高,和清洗过程不需要使用更昂贵的有机溶剂,使总体成本低于传统湿法净化过程;7,使用等离子体清洗,避免清洗液体运输、存储、放电和其他治疗措施,所以生产站点很容易保持清洁和卫生;8、等离子体清洗不能治疗,它可以处理各种材料、金属、半导体、氧化物、或高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂和其他聚合物)可以使用等离子体处理。

5221plasma等离子体清洗设备