4.取2pcs显示OK的产品，uv丝印附着力国标在同一位置裸露的ITO上沾上汗渍（不戴手套，直接戴手指套，约15分钟后手指套内的汗渍），将其中1pcs进行Plasma清洗，然后产品一起通电，观察腐蚀状况（车间温度管控范围:22℃+/-6℃，湿度控制范围55％+/-15％）。 产品A经过等离子清洗；产品B不进行等离子清洗。
适用范围广:无论基片类型的加工对象，uv丝印附着力国标均可加工，如金属、半导体、氧化物及大部分高分子材料均可加工;低温:接近常温，特别适用于高分子材料，比电晕和火焰法具有更长的贮存时间和更高的表面张力。功能强:只涉及高分子材料(10-0A)的浅层表面，在保持材料自身特性的同时，可赋予一种或多种新的功能;成本低:设备简单，操作维护方便，连续操作，往往几瓶气体就可以替代数千公斤的清洗液，因此清洗成本将大大低于湿法清洗。
Ar + 撞击污垢形成挥发性污垢，uv丝印附着力国标避免表面材料发生反应；另一方面，使用氩气容易形成可变稳定原子，然后与氧和氢分子碰撞，产生电荷转换并重新结合形成氧和氢活性原子。它作用于物体的表面。官能团介绍：高分子材料用N2、NH3、O2、SO对2等气体进行等离子处理可以改变表面的化学成分，并引入相应的新官能团（-NH2、-OH、-COOH、-SO3H等）。
等离子清洗是剥离式清洗等离子清洗的特点是清洗之后对环境无污染。在线式等离子清洗设备是在成熟的等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上增加上下料、物料传输等自动化功能。针对IC封装中引线框架.上点胶装片、芯片键合及塑封等工艺前清洗大大提高粘接及键合强度等性能的同时,避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。
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这时，如果真空泵的末端残留油或气，由于真空室内的负压，会被吸入真空室内，从而污染真空室内的产品。这是因为低压等离子装置的高真空气动挡板阀在报警停止后自然关闭，但此时真空室仍处于高真空状态，由高真空转为真空。泵端处于常压状态，即为压差。是的，如果此时点击启动按钮，高真空气动挡板阀将打开，油气会被吸回并污染真空室。污染产品。
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