5.由不同喷枪组成的电晕喷枪覆盖待处理型材的所有区域。这种连续电晕处理工艺无接触、均匀、高效。。常压电晕线路板处理中的化学和物理变化；/Product/5/电路的运行过程、及时性和处理方案，电晕处理机线路设计图在一定压力下，通过射频电源形成高能电晕，再由电晕过渡到靶面的加工表面，形成微脱离效应。
由于大型电晕清洗器蚀刻的金属硬掩模图形将作为沟槽蚀刻的掩模层，电晕处理机线路图蚀刻后的金属硬掩模层的图形完整性和关键尺寸将再次转移到（超）低介电常数材料上，并通过沟槽蚀刻形成金属连接。金属硬掩模层蚀刻图形对设计图形传输的保真度以及蚀刻后关键尺寸偏差的负载效应将被后续沟槽蚀刻继承，甚至这些偏差还会因沟槽蚀刻的负载效应而继续放大。因此，大型电晕需要严格控制金属硬掩模层的蚀刻。
一般在光刻胶涂覆和光刻显影后，电晕处理机线路设计图通过物理溅射和化学作用去除不必要的金属，目的是形成与光刻胶图形相同的电路图形。电晕刻蚀机是干法刻蚀的主流，因为它具有良好的刻蚀速度和方向目前已逐渐取代湿法蚀刻。对于IC芯片封装，真空电晕刻蚀工艺既能刻蚀表面的光刻胶，又能防止硅衬底的刻蚀损伤，以满足多种加工工艺的要求。
面罩：里面刻有电路平面图的玻璃板，电晕处理机线路图价值数十万美元。口罩台：承载口罩移动的装置，移动控制精度为纳米级。物镜：物镜由20多个镜头组成，主要作用是将电路图按份额缩小到掩模板上，再通过激光映射到硅片上，物镜还补偿各种光学误差。技巧之难，在于物镜规划之难，精度要求之高。硅片：由硅晶体制成的晶片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，成品率越高。说句题外话，因为硅片是圆的，所以需要在硅片上切一个缝隙来识别硅片的坐标系。
电晕处理机线路设计图
曝光的铜箔蚀刻后，PCB布局电路被固化的感光膜保护并留下。用于外部PCB布局转移这是一种常用的方法，用正片作板。非电路区域被PCB上的固化感光膜覆盖。清洗掉未固化的感光膜后，进行电镀。有膜的地方，电镀是不可能的，但没有膜的地方，先镀铜，后镀锡。脱膜后进行碱蚀，再经ZUI脱锡。电路图案留在板上，因为它受到锡的保护。用夹子夹住PCB板，镀铜。
4.电晕处理设备功能强大，仅涉及高分子材料的浅表面(10-0a)，在保持材料自身特性的同时，可赋予材料一种或多种新功能；5.装置简单，操作维护方便，可连续运行。通常情况下，几瓶空气就能代替上千公斤的清洁液。因此，清洗成本会比湿式清洗低很多，成本可以控制，成本可以节省一半。
如果停留时间过长，哪怕只有几秒钟，温度也会急剧上升。也是因为温度高，所以一般易碎的东西都用真空机洗。真空电晕没那么复杂。根据电源的频率，以40kHz和13.56MHz为例：正常情况下，材料放入腔体工作，频率为40kHz，一般温度在65以下。而且，该机配备了强劲的散热风扇。如果加工时间不长，材料表面温度会与室温一致。13.56MHz的频率更低，通常低于30。
用电晕来达到我们一般清洁方法达不到的效果，有应用的时候就会出现问题。如何处理电晕出现的问题？让我们告诉你如何处理。1.外部清洁处理方法在真空电晕腔内，通过射频电源在一定压力下产生高能无序电晕，用电晕轰击被清洗产品的外观，达到清洗的目的。2.外活化处理法经过电晕表面处理后的物体，增强表面能，亲水性，提高附着力，附着力。
电晕处理机线
由于沉积过程中ITO薄膜中的氧空位和Sn掺杂原子，电晕处理机线路图形成了高度简并的n型半导体，其费米能级Er位于导带底部Ec的上方，因此具有高载流子浓度和低电阻率。此外，ITO具有很宽的光学带隙，因此对可见光和近红外光都有很高的透过率。ITO薄膜以其独特的性能被广泛应用于光伏电池、电致发光、液晶显示、传感器和激光器等光电子器件中。
经过电晕后，电晕处理机线化纤和织物的表层会发生功能化，而不影响其整体性能。在电磁场作用下，这些电晕粒子沿人体织物梯度表层扩散，产生了多种通用的表面处理方法。其中包括键的断裂产生表面活性中心、化学结构和官能团的接枝、材料的挥发（腐蚀）、表面污染物或层的偏析（清洗）以及保形涂层的沉积。。
