建立了羟基、羧基等自由基基团，电晕处理效果的影响因素可促进各种涂料材料的附着力，并在附着力和涂料应用中得到优化。在相同的效果下，利用电晕处理可以获得很薄的高张力涂层表面。
反应电晕是指电晕中的活性粒子能与难粘材料表面发生反应，电晕处理效果的影响因素从而引入大量极性基团，使材料表面由非极性转变为极性，提高表面张力和粘附性。此外，在电晕高速冲击下，难粘材料分子链断裂、交联，增加了表面分子的相对分子质量，改善了弱边界层，对提高表面粘附性能起到积极作用。
经氩电晕处理后，电晕处理效果的影响因素表面张力将明显提高。活性气体研究所产生的电晕也能增加表面粗糙度，但氩离子电离后产生的颗粒相对较重，氩离子在电场作用下的动能会显著高于活性气体，因此其粗化效果会更加明显，广泛应用于无机基底的表面粗化过程。如玻璃基板表面处理、金属基板表面处理等。③主动气体辅助在电晕的活化清洗过程中，常采用工艺气体混合以达到较好的效果。
在线电晕清洗工艺的应用-电晕设备/电晕清洗/电晕处理随着工业和消费电子商场的发展，电晕处理对表面张力电子设备变得更加轻薄和紧凑。这种商场需求促进了微电子封装的小型化，也对封装的可靠性提出了相应的要求。高质量的封装技术可以提高电子产品的寿命。在封装过程中，芯片键合间隙、引线键合强度低、焊球分层或脱落等成为制约封装可靠性的重要因素。必须在不破坏材料的外部和电气特性的情况下有效地去除各种污染物。
电晕处理效果的影响因素
这种共振会导致一个。面积范围周围的面积范围显著提高，共振频率与电子密度和电子有效质量有关。粒径、形状等因素。电子的这种集体振荡称为偶极电晕共振。局部电晕在一定频率范围内对金属（纳米）粒子光学性质的影响是主要的。光场作用于金属（纳米）粒子产生电晕振荡、局域强度和表面强度。
在电晕晶圆清洗机常压流动电晕反应器中，影响电晕能量密度的主要因素是进料气体流量F和电晕注入功率P，进料气体流量是影响反应体系中活性颗粒密度和碰撞几率的主要因素之一。电晕晶圆清洗机的电晕注入功率是在电晕中产生各种活性粒子（高能电子、活性氧、甲基自由基等）的能量来源，两者的动态协同作用可以用能量密度Ed（kJ/mol）来描述。
血浆&ldquo；具体&rdquo；成分包括：正离子、电子器件、特定基团、受激核素（亚稳态）、光量子等。
1962年，美国霍尔制造了p-n同质结的DI半导体激光器。产生激光必须满足三个条件：粒子数反转分布、谐振腔和电流超过一定阈值。1963年，美国的Kremer和苏联的Alferov分别独立制作了异质结激光器，即图8中，在结区使用了一种带隙较小的材料，如GaAs；另一种宽禁带材料，如AlxGa1-xAs用于两侧的p区和n区。这样，发光区域被限制在窄结区中。从而大大提高了发光效率，降低了激光器的阈值电流。
电晕处理对表面张力
电晕处理可以应用于各种基板，电晕处理效果的影响因素即使是复杂的几何构型，也可以通过电晕活化、电晕清洗、电晕涂层而没有问题。电晕处理的热和机械负荷较低，因此低压电晕也可以处理敏感材料。
电晕清洗具有良好的均匀性、重复性、可控性、节能环保等优点，电晕处理对表面张力具有广泛的应用范围。在电晕清洗过程中，氧气变成含有氧原子自由基、激发态氧分子、电子等粒子的电晕。这类电晕与固体表面的反应可分为物理反应（离子轰击）和化学反应，物理反应机理是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物从表面分离出来，并被真空泵吸走。化学反应机理是O活性颗粒将有机物质氧化成水和二氧化碳分子，从表面清洗（去除），并被真空泵吸走。
