低温等离子处理技术有效去除物体表面的污渍等离子有效成分包含：离子、电子器件、活性基团、核素(亚稳)、光子等。低温等离子处理设备是根据这些活性成分对样品进行表面处理，以实现清洁。同固体、液体、汽体一样，等离子是化学物质的一种情况，也被称为物质的第四态。给气体足够的能量，使它离化成等离子态。等离子的“活性”成分包含：离子、电子器件、活性基团、核素(亚稳态)、光子等。低温等离子处理设备根据这些活性成分的性质来处理样品表面，从而达到清洁、改性的目的。
低温等离子处理设备的原理主要依靠等离子中活性粒子的活化作用来去除物体表面的污渍。对于反应原理等离子清洗往往包含下列环节：无机物气体被激发为等离子；气质联用化学物质吸附在固体表面；吸附该基团与固体表面的分子反应生成产物分子；产物分子分析形成气质联用；产物分子分析形成气质联用；反应残渣与表面分离。低温等离子处理技术有效去除物体表面的污渍00224345