由于等离子体中的绝缘体通常被称为浮动衬底，亲水性指数是负值因此绝缘体的电位常被称为浮动电位。很明显，浮置电位为负值，浮置衬底与等离子体交界处形成由正离子组成的空间电荷层。因此，任何绝缘体，包括反应堆壁，放置在等离子体中都会形成离子鞘层。等离子体鞘层是等离子体的重要特征之一。等离子体鞘层的具体行为与体系温度T和粒子密度N密切相关，通过对鞘层的研究可以了解等离子体的一些重要性质。。
由于等离子体最初是准电中性的，亲水性指分子能够通过如果不导电的绝缘基板悬浮在等离子体中，基板中的离子和电子会在单位时间内移动并到达基板，组成的电子数量要高得多比离子数。由于到达碱基的一些电子与离子重新结合，其余的是离子，因此碱基是负电荷积聚在底面上，基板表面的电位变为负值。这种负电位吸引正离子，同时排斥随后的电子。当基板的负电位达到一定程度时，离子的流动就变成了电子的流动。
由于电子的速度比离子快得多，矿物的亲水性指数放置在等离子体中的材料表面电位相对于等离子体电位（称为漂移电位）为负值。高速电子将反应分子激发、电离或破碎为自由基碎片，而正离子不断轰击处理后的材料表面，显著影响表面化学反应。化学蚀刻是由于等离子体中活性粒子的能量接近或略大于被处理材料分子键的键能。接近的能级使得导管材料分子暴露在等离子体中的化学键容易被打破，或形成小分子与基体分离，或形成新的化学键导致交联或自由基。
由于高能等离子冲击，矿物的亲水性指数冲击力足以去除表面的污垢，由真空泵以气体形式排出。 2.气体流量处理室压力是气体速度、产品排放速度和泵速度的函数。由于腔内气体量的不同，产生的等离子体的密度不同，从而影响治疗效果。 3.力量通过提高等离子处理的功率，可以增加等离子的密度和能量，从而提高等离子处理的速度。血浆密度是单位体积中所含的血浆量。等离子体能量定义了等离子体与表面物理碰撞的能力。
亲水性指数是负值
沉淀 .. 冷等离子工艺越来越多地用于刚性柔性板。低温等离子技术的开发和应用有力地保证了微电子行业的产品质量，促进了其在行业中的应用发展。设备自动化的发展降低了人工成本，提高了生产效率，给企业带来了发展效益，也彰显了技术的吸引力。低温等离子表面处理技术，提高复合零件之间的附着力，在许多应用中，连接过程需要将多个复合部件连接成一个。在这个过程中，复合零件之间的粘合过程非常复杂，很难通过胶合来完成。
当半导体晶圆片暴露于氧和水时，在其表面形成oxideA天然氧化层。这种氧化膜不仅干扰半导体制造中的许多步骤，而且还含有某些金属杂质，在一定条件下可以转移到盘上形成电气缺陷。这种氧化膜的去除通常是通过稀氢氟酸浸泡来完成的。。
处理效果随时间呈指数衰减，衰减速度与储存环境湿度、原材料品牌、膜厚有关。存储环境温度越高，消光速率越快、越彻底。例如，在199.9℃以下的环境温度下，聚乙烯膜的临界表面弯曲力为38-4ZMn /m，到358C以上时，无论原膜处理多深，一个月后，其表面弯曲力将降低到37.8Mn /m以下。加工后最好在一个月内用完，否则印刷或复合效果会显著降低。
材料的热物理力学性能：包括热膨胀系数、比热、热扩散系数、密度、熔点、弹性模量、屈服应力、硬化指数等。。等离子数控切割机需要与等离子等离子电源配套，等离子电源的作用很大。不仅能有效地提高切割机的切割（效率）和质量，而且从长远利益出发，节约数控切割机的采购成本。下面小编在选购等离子等离子电源时需要考虑的要点：等离子体等离子体电源分为机械式等离子体电源和手持式等离子体电源。
矿物的亲水性指数
塑料经过电晕处理后，亲水性指数是负值塑料的表面张力明显增加，但张力值很不稳定。随着时间的推移，表面张力值呈指数下降。电晕处理路线分为三种，第一种是薄膜制造过程中的电晕处理，第二种是印刷/层压过程中的电晕处理，第三种是薄膜制造过程中的第一次电晕处理，然后进行。 .在印刷和复合过程中进行第二次电晕处理。。等离子清洗机的使用始于 20 世纪初。随着高新技术产业的快速发展，其应用越来越广泛，现已在许多高新技术领域中处于重要技术地位。
