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当没有施加电场时，等离子去胶整个铁电体的外部不显示极化状态，因为空间中的畴取向是随机的。但是，在足够强的外电场作用下，电场的偶极矩向外电场方向转移。这形成了极化强度（极化电荷）和外加场强（电压）电位回路。磁滞钱围起来的面积代表了每单位体积铁电体在每个电场变化周期中所消耗的能量。极化和电场是铁电体的两个重要参数。等离子体引起强制电场强度的较大变化，如果铁电体的磁滞特性增加，则强制电场强度可能降低而自发极化强度不改变。

等离子体改性对铁电体磁滞特性的影响随着矫顽力的降低而降低。换言之，PFC等离子去胶等离子处理不能无限降低矫顽力，似乎有一个下限。等离子处理过的样品的磁滞回线基本不随放置时间而改变，打印校正稳定性非常好。反铁电体的等离子体处理没有显示磁滞回线的任何变化。用高频放电等离子体处理铁电体后，可以减小畴反转的损耗角。铁电体的畴反转损耗角一般与材料的成分、结构（畴结构）、环境温度下的表面条件、晶格缺陷等有关。

等离子体处理后铁电体的畴反转损耗角减小的原因可能是由于等离子体对铁电体畴结构的影响。铁电体也不是绝对绝缘体，半导体等离子去胶设备多少钱它们在自发板形成或施加电场产生的电场的作用下在其体内感应电荷。在电子的情况下，它们由于高频电场的作用而振动，并与晶格离子碰撞产生位移，从而影响铁电物质的内部结构。高频放电等离子体子体对强电场强度的铁电物质的磁滞特性有明显的调节作用，可以在不改变自发极化强度的情况下降低强迫电场强度。

这些杂质的来源也会产生各种金属污染物，PFC等离子去胶因为它们在各种器具、管道、化学试剂和半导体晶片的加工过程中形成金属互连。通常通过化学方法去除这些杂质。用各种试剂和化学品制备的清洗溶液与金属离子反应形成金属离子络合物，并从晶片表面分离。 4. 等离子设备的氧化物 当半导体晶片暴露在含有氧气和水的环境中时，表面会形成自然氧化层。

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