等离子体不与表面发生反应，二氧化硅电处理表面改性但它会通过离子冲击清洁表面。典型的等离子化学清洗工艺是氧等离子清洗。等离子体产生的氧自由基具有很强的反应性，很容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水等挥发物，从而去除表面污染物。...基于物理反应的等离子清洗，也称为溅射刻蚀（SPE）或离子铣削（IM），其优点是不发生化学反应，清洗表面无氧化物残留，清洗后的物体可以保留。
因此plasma等离子体与催化剂共同作用是一种具有潜力的强化反应过程，二氧化硅电处理表面改性是一个崭新的研究方向，一旦有所突破，势必推动等离子体这门新兴交叉学科的发展。。plasma等离子体与十种催化剂共同作用对甲烷二氧化碳转化率影响不同：过渡金属氧化物是工业催化剂中很重要的一类催化剂，由其参与的多相催化 反应，通常是通过催化剂的酸碱作用或氧化还原作用进行的。
清洁污染物和光刻胶是湿法化学清洁的环保替代方案。 1 基于化学反应的清洗基于表面化学的等离子清洗通常被称为等离子清洗PE。许多气体的等离子体状态可以产生高活性粒子。化学方程式表明，二氧化硅电处理表面改性典型的 PE 工艺是氧或氢等离子体工艺。氧气等离子化学品可以将非挥发性有机物质转化为挥发性二氧化碳和水蒸气，以去除污染物。清洁表面。含氢等离子体可以去除金属表面的氧化层，通过化学反应清洁金属表面。
自由基团的作用主要是化学反应过程中能量转移的“激活”，二氧化硅疏水表面改性处于受激态的氧自由基具有高能量，这样容易与物件表面分子结合，就会产生新的氧自由基，而新形成的氧自由基则处于非稳定高能态，当转变成更小的分子时，很有可能发生分解反应，从而产生新的氧自由基，这个反应过程可能会继续，最终分解为水、二氧化碳等简单的分子，而在其他情况下，氧自由基与物件表面的分子结合时，而这种能量也是引发新的表面反应的驱动力，由此引发物件表面的物质发生化学反应而除去。
二氧化硅疏水表面改性
离子清洗机对玻璃表层的清洗，除机械作用外，主要是活性氧的化学作用，等离子中的激发态Ar，氧分子被激发为激发态的氧原子与氧分子碰撞而分解，润滑剂与硬脂酸之间形成激发态氧原子沾污，其主要成分是由活性氧氧化而成的烃类，产生二氧化碳气体和水，这样就可以把油污从玻璃表层清除。 玻璃钢化粪池前面板的清洗过程比较复杂。这种不平衡Ar/O2大气压等离子喷射流针状电极预电离过程简单易行。
在活性自由基的作用下，与污染物（主要是碳氢化合物）反应生成一氧化碳。二氧化碳、水等分子已从材料表面去除。 (3)等离子表面的清洗方式影响清洗(效果)效果。等离子物理-化学等离子表面清洁可以增加材料的表面粗糙度。这有助于提高材料表面的粘合性和表面渗透性。一家专注研发制造10年等离子表面清洗设备的优秀制造商。因为优秀，所以优秀。。
等离子体内部能量是由热能、电场能、磁场能和辐射场所构成的，这些能彼此相互影响和转换，使得等离子体能在一个更宽广范围的、多维参数相互关联的空间里存在。任何材料一旦接触到等离子体，就会发生一系列的物理、化学变化，甚至会出现熔化。等离子体制造技术在实现对材料加工制造的同时，又能实现对材料本身的改性，提高材料的附加价值。
等离子体表面处理设备与萘钠溶液处理方法的差异；等离子体表面处理设备用等离子体是在高分子物理、等离子体有机化学、表面科学研究、反射控制论等交叉科学的基础上产生并迅速发展起来的。在工业生产中，常用于清洗各种材料的表层，去除灰尘和污渍，改善表层的粘附特性。等离子体表面处理设备广泛应用于以下三大行业：等离子体表面处理设备改性材料、等离子体聚合物和等离子体诱导聚合物。
二氧化硅疏水表面改性
使用氮气（plasma）等离子对该生物材料进行改性研究，二氧化硅疏水表面改性具有比较明显的改性作用，并且这种方式可以在不改变原本材料的力学能力，使得材料的化学成分或者物理成分发生变化。对材料使用（plasma）等离子处理之后，其表面会变成极性表面，比如会使得表面变得更加凸凹不平，会发生一定的腐蚀等现象、有机残留物的取出等，这些变化都有利于提供材料的粘接性能。
Mn++n(-COOH)⇆(一COOH)nM+nH+ （1）当然，二氧化硅疏水表面改性不是所有气氛条件下的等离子体改性碳基材料后对其吸附性能都有促进作用，因为不同的处理气氛对活性炭的比表面积和表面的化学结构的影响是不一样的。
