一般的光芒电气清洗是通过将材料置于一些电离的蒸汽中，对abs附着力好的硅烷并用低能离子和电子轰击它来完成的。轰击的能量取决于功率、射频或直流电流的放电特性以及被清洗材料的性质(如绝缘或电导率)。例如，O2放电产生的离子和电子轰击材料的外层，不仅释放杂质，还在外层产生挥发性物质，从而达到清洗的目的。对Ar等离子体设备进行清洗，可以有效降低某些材料在较长时间内的有机污染。
低温等离子体消毒技术具有突出的优势，对abs附着力好的硅烷基本上浓缩了其他杀菌技术，如干热杀菌、高压蒸汽杀菌，消毒和杀菌时间短。与化学灭菌法相比，它具有温度低的优点，可用于多种物品和材料。特别是在切断电源后，各种特定颗粒能迅速消失，只需几秒钟，不需要特殊通风，不会对操作人员造成任何伤害，更加安全可靠，值得广泛推广。等离子体表面处理器的电离率较低，电子温度远高于离子温度，甚至可以相当于室温。
等离子体设备主要是利用蒸汽电离产生等离子体，对abs附着力好的硅烷其中含有电子、离子、官能团和紫外线等高能成分，达到物质表面(活性)的目的。
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而且，经由电晕处理得到的表面张力无法维持长时间的稳定性，经过处理的产品往往只能存放有限的时间。常压等离之处理技术:常压等离子是在大气压条件下产生的。常压等离子处理技术的成本低、性能好，因而作为真空等离子和电晕工艺的工艺替代和工艺提升，获得了广泛的应用。常压等离子技术的一大优势，在于其在线集成能力。作为一项工艺准则，这种技术能够顺利集成到现有的生产系统中。。
等离子体表面处理设备的原理达到去除物体表面污垢的目的，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化”。等离子清洗/蚀刻机是一种产生等离子的装置，两个电极设置在密闭容器中形成电场，并用真空室抽出一定的真空。随着气体变稀薄，分子之间的距离增加，分子和离子的自由运动距离也增加。由于电场的作用，它们碰撞形成等离子体。等离子体的活性越来越高，其能量可以被破坏。几乎所有的化学键。不同的气体等离子体具有不同的特性。
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