虽然可以产生典型的大体积强激发低温等离子体,附着力促进剂硅烷但其工作压力太低,难以在工业应用中连续生产,应用成本高。目前主要用于半导体行业的清洗。射频plasma等离子体清洗机:射频放电通常在低压下操作,也可以在常压甚至加压下操作,其特点是放电气体不与电极接触。射频放电是利用高频电场将反应器中的气体放电,通过电感或电容突变产生等离子体。
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根据所用气体的化学性质,环氧基团附着力促进剂用法可分为非活性气体等离子体和非活性气体等离子体,非活性气体如氩气(Ar)、氮气(N2)、氟化氮(NF3)、四氟化氮(CF4)、活性气体和氧气(O2)、氢气(H2)等。在清洗过程中,不同类型气体的反应机理是不同的。活性气体等离子体具有很强的化学反应性。以上就是小编从两个方面对等离子的介绍,希望能给朋友们更好的了解。。
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