采用有机氟或有机硅单体，塑料哑光漆附着力好耐高温采用低温等离子体聚合技术在透镜表面沉积出10nm的薄层，可改善其抗划痕性和反射指数。国外还有等离子体化学气相沉积技术应用于塑料窗用玻璃、汽车百叶窗和氖灯、卤天灯的反光镜的报道。 等离子体聚合膜具有多种性能，可使同样的基材应用于很多领域。
不小心触碰带电和释放的范围，哑光漆附着力会产生贯穿全身的针灸针，但不会造成人身危险。正常情况下我们会关闭屏幕，保护充放电范围，保证物理隔离。塑料板、槽、孔、环等复杂的三维表面，以保证一定的大气压等离子清洗设备与清洗半微米级的材料接触面，不会影响材料的性能。以上总结的大气等离子清洗设备常见操作手册，大家可以查看一下，小编在此友情提示设备使用完毕后，一定不要忘记关机。。
由于等离子清洗机的成本较低而且操作灵活，pet哑光漆附着力因此在各种高新科技行业中得到了非常广泛的应用，尤其是在半导体、微电子行业中以及集成电路电子行业和真空电子行业中的应用，可以说是一件十分重要的设备。 除此之外，等离子清洗机在纺织、汽车、航空航天、生物工程、医学医疗、塑料橡胶、考古等行业中也有十分广泛的应用。
从化学反应式可知，pet哑光漆附着力典型的PE工艺是氧气或氢气等离子体工艺，用氧等离子通过化学反应，能够使非挥发性有机物变成易挥发性的CO2和水汽，去除沾污物，使表面清洁；用氢的等离子可通过化学反应，去除金属表面氧化层，清洁金属表面。反应气体电离产生的高活性反应粒子，在一定条件下与被清洗物体表面发生化学反应，反应生成物是易挥发性物，可以被抽走，而针对被清除物的化学成分，选择合适的反应气体组分是极为重要的。
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例：H2+e-→2H※+e- H※+非挥发性金属氧化物→金属＋H2O从反应式可见，氢等离子体通过化学反应可以去除金属表面氧化层，清洁金属表面。物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子体清洗，也叫溅射腐蚀（SPE）。
例2：从H2+E-→2H*+EH*+非挥发性金属氧化物→金属+H2O反应式可以看出，氢等离子体可以去除金属表面的氧化层，清洁金属表面。通过化学反应。物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子清洗。也称为溅射蚀刻 (SPE)。例：AR+E-→AR++2E-AR++污染→挥发性污染AR+在自偏压或外加偏压的作用下加速产生动能，然后将清洁后的工件放在负极上。到工件表面。
由于气体粒子温度较低（具有低温特性），因此把这种等离子体称为低温等离子体。当气体处于高压状态并从外界获得大量能量时，粒子之间的相互碰撞频率大大增加，各种微粒的温度基本相同，即Te基本与Ti及Tn相同，我们把这种条件下得到的等离子体称为高温等离子体，太阳就是自己界中的高温等离子体。
C3初生碳化物改善(Cr，Fe)，C3共晶组织增加了大量奥氏体组织，奥氏体在高温和常温下具有优异的强韧性，可为涂层耐磨增强相提供有力支撑，减少涂层零件在使用过程中的开裂和剥落倾向。因此，大量TiC颗粒的合成和奥氏体组织的形成，（Cr Fe）和C3初生碳化物的减少或消除，以及（Cr,Fe）和C3共晶组织的改善，有效地提高了涂层的韧性，抑制了涂层裂纹的产生。
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传统金属 CU 刻蚀中使用的 CL2 气体等离子体在高温下与之反应生成 CUCL2，pet哑光漆附着力在后续工艺中将其去除。 HESS课题组报道了一种低温（10℃）H2气体等离子刻蚀的方法，并在等离子表面处理机ICP的刻蚀室中成功实现了CU刻蚀。如扫描电子显微照片所示，蚀刻工艺使用SIO2作为硬掩模材料形成图案，用H2气体等离子体蚀刻的 NM厚的CU薄膜明显形成了阶梯结构，CU暴露在薄膜下方的SI衬底。
