通常认为甲烷在等离子体条件下通过两种途径产生乙炔： 1. CH自由基偶联反应； 2. C2H6和C2H4的脱氢反应。系统中CO2浓度的不断增加会消耗大量高能电子、C2H6、C2H4和高能电子。电子碰撞的可能性不断降低，偶联剂附着力进一步的脱氢反应受到阻碍，C2H4的产生量进一步减少。因此，随着体系中CO2浓度的增加，C2H6和C2H4的摩尔分数趋于增加，C2H2的摩尔分数减小。。
一般而言，偶联剂附着力CEO2 / Y-AL203 是一种出色的催化剂，可将 CH4 完全氧化生成 CO，并且不会导致生成 C2 碳氢化合物。同样，SM2O3 / Y-AL2O3 是等离子体中 CH4 氧化偶联反应的优良催化剂。其在等离子体气氛中的催化活性尚不清楚。这表明等离子体-催化相互作用的机理不同于纯催化。因此，有必要进一步研究等离子体表面处理装置与催化剂的相互作用机理。
等离子体设备作用下二氧化碳加入对CH4转化反应的影响；在氧等离子体氧化偶联甲烷反应中，哪些硅烷偶联剂附着力氧气的用量将直接影响CH4的转化率和C2烃的选择性。较低的氧量会导致CH4转化率较低，而较高的氧量会导致CH4氧化为COx(x=1,2）。对于等离子体设备作用下的CO2氧化CH转化反应，也有适宜的CO2添加量。
具体分类如下：分类高温等离子体低温等离子体热等离子体冷等离子体温度范围10^6~10^8K10^3~10^5K10^2~10^5K热力学性质热力学平衡局部热力学平衡非热力学平衡应用范围太阳上等离子体电弧等离子体辉光放电受控热核聚变高频等离子体电晕放电。plasma等离子发生器广泛应用于刻蚀、脱胶、涂层、灰度、等离子外表处理。
那类型硅烷偶联剂附着力好
PTFE微孔板薄膜的使用范畴不断拓展，可以预见等离子表层彻底解决PTFE微孔板薄膜技术也会逐渐获得应用推广。。等离子表面改性会产生几种改变等离子表面改性是等离子资料和其他资料表面相互作用的进程，这其间设计到等离子化学以及等离子物理两个作用进程。
工作气体通过喷嘴与电极之间，用高频火花引燃电弧。电弧加热并电离气体，产生等离子弧，气体的热膨胀从喷嘴喷射出高速等离子射流。粉末气体从喷嘴(粉末内部)或喷嘴外部(粉末外部)进入等离子体射流，被加热到熔融或半熔融状态，并被等离子体射流加速，以一定的速度到达经过预处理的基板表面形成涂层。常见的等离子体气体有氩、氢、氦、氮或它们的混合物。工艺气体与施加在电极上的电流一起控制工艺产生的能量。
3﹑铜箔不可有氧化﹐检查清洁铜箔：已毛刷轻刷表面﹐以刷除毛屑或杂质。4﹑将正确之coverlay依工作指示将正确之coverlay依工作指示及检验标准卡之位置和规定对位，以电烫斗固定。5﹑假贴后的半成品应尽快送之热压站进行压合作业以避免氧化。品质控制重点：1﹑要求工作指示及检验标准卡之实物对照coverlay裸露和钻孔位置是否完全正确。
等离子清洗机又称等离子蚀刻机、等离子脱胶机、等离子活化剂、等离子清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理设备广泛用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆剥离、等离子镀膜、等离子灰化、等离子活化、等离子表面处理等。同时，它去除有机污染物、油和油脂。点火线圈骨架用等离子清洗剂处理后，不仅可以去除表面的不挥发油污，而且骨架的表面活性，即骨架与环氧树脂的结合强度提高，空气避免了气泡。
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