手机、笔记本电脑边框油漆不易脱落，pe可以电晕处理后几天有效外壳粘在一起。外壳不易漆掉，文字不易褪色，手机和笔记本键盘粘在一起，电脑键盘上的文字不易漆掉。等离子体清洗技术可以有效避免化学溶剂对材料性能的破坏。在清洗材料表面时，可引入各种活性官能团，增加纤维表面粗糙度，提高纤维表面自由能，有效增强树脂与纤维之间的结合。利用纤维界面间的结合，提高了复合材料的综合性能。
例如，电晕处理机是明火吗湿法处理步骤简单易实现，但处理结果含有C、O、F等污染物；高温处理可有效去除C、O等污染物，但处理温度有待进一步优化，后续工艺兼容性差；等离子体处理可以有效去除O、F等污染物，但处理温度和时间不当会对表面带来离子损伤，重构SiC表面。
等离子体用于化学反应时，电晕处理机是明火吗一般采用非平衡低温等离子体辉光放电。血浆中有更多的活性。由于大多数活性物种渗透力很小，几乎仅限于在材料表面反应，使材料整体不受影响，短时间内可有效改变材料表面性质。表面活化改性主要有等离子体聚合和等离子体处理两种。这种差异取决于所用气体的类型。有聚合气体的称为等离子体聚合，有非聚合气体的称为等离子体处理。在不可聚合气体中，化学活性或非活性组分会使反应产生很大差异。
二、影响清洗效果的主要因素1.电极对等离子体清洗效果的影响：电极设计对等离子体清洗效果有显著影响，电晕处理机是明火吗包括电极材料、布局和尺寸等因素。对于内部电极等离子体清洗系统，由于电极暴露在等离子体中，某些材料的电极会被某些等离子体刻蚀或溅射，造成不必要的污染和电极尺寸的变化，较小的电极间距可以将等离子体限制在较窄的区域内，从而获得较高密度的等离子体，达到较快的清洗速度。
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相比较而言，等离子体设备干法刻蚀中氮化硅对金属硅化物的选择性比小于湿法刻蚀。通过控制工艺时间来控制刻蚀量，可以控制硅化物损伤。等离子设备应力附近蚀刻越多，金属硅化物损伤越严重，金属硅化物的电阻越高。另一方面，由于侧壁被完全或部分移除，降低了后续填充的长宽比，提高了接触过孔停止层和层间介质层的填充性能。。
这会使处理过的材料上链断裂，产生交联，从而使材料强化。离子轰击：等离子体电场中产生的离子以不同的能量和速度分布在聚合物表面，会引起刻蚀和溅射，从而清洁表面基底，有效降低分子量结构。气态激发：气体的电离也意味着气体中有许多被激发的物质。这些激发态物质能与表面反应生成羟基(-OH)、羰基(-C=O)、羧基（-COOH）或氨基(NHx)等官能团，这些官能团极性高，能改变表面的碱/酸相互作用。
（3）链转移反应：H+C2H6&RARR；C2H5+H2(3-29)CH3+C2H6&RARR；C2H5+CH4(3-30)CH3+E*&Rarr；CH2+H(3-31)CH2+E*&Rarr；CH+H(3-32)CH+E*&RARR；C+H(3-33)（4）链终止反应：CH3+H&RARR；CH4(3-34)CH2+CH2&RARR；C2H4(3-35)CH3+CH&Rarr；C2H4(3-36)CH+CH&RARR；C2H2(3-37)低温常压下，纯乙烷在等离子体作用下可脱氢生成乙炔；、乙烯、少量甲烷和积碳，但存在转化率低、反应器壁积碳等问题。
抛光钛片表面不存在氧化膜，但空气中钛片表面会迅速形成钛氧化膜。射频等离子体处理器等离子体腔中的氮氢等离子体（如-NH2、-NH、N等）会轰击钛表面，使氧化钛键断裂。同时，氢等离子体会使表面氧化钛还原，表面部分纯钛暴露在等离子体气氛中。高能氮氢等离子体通过与钛的再键形成Ti-NH2、TiN或TiN、N-O等新键，由于H的还原也可能在表层形成Ti-OH键。
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