等离子清洗机的频差及应用常用的等离子体激励频率有三种：激励频率为40kHz的超声等离子体、激励频率为13.56MHz的射频等离子体和激励频率为2.45GHz的微波等离子体。非均匀等离子体的自偏压不同，500型平板片材电晕处理机超声等离子体的自偏压在1000V左右，射频等离子体的自偏压在250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三种等离子体的机理不同。
质量和成本受包装工艺的影响。未来集成电路技术以尺寸为特征，500型平板片材电晕处理机IC封装技术向小型化、低成本、个性化、绿色环保方向发展。密封设计尽快协调发展。真空等离子清洗机在半导体行业已有成熟的先例。IC半导体的主要生产工艺是在20世纪50年代以后发明的。起初，由于各种元器件和布线都非常精细，因此，IC在制造过程中容易产生灰尘，或者有机物等污染，很容易造成晶圆损坏和短路。
其特点是启动快，电晕处理意思是什么耗电少，运行维护成本低，抽速高，效率高，对抽气中的少量水蒸气和粉尘不敏感，在~1Pa压力范围内抽速大，快速消除突然释放的气体，无需油润滑；转速可高达3450～4r/min；泵送速率为30～00L/s。极限真空度：单级泵的6.5倍；102Pa，两级泵1倍；103Pa.5.扩散泵是动量传递泵。其特点是用于真空熔炼和镀膜的真空度高，空间模拟实验和对油污不敏感的真空系统。
