内部封闭的框架和减震器：将工作台与外部环境隔离，CCP去胶机器保持水平，减少外部振动的干扰，保持温度和压力稳定。光刻机的分类光刻机一般分为手动、半主动和全主动三种类型，这取决于其操作的难易程度。手动：指通过手动调整旋钮改变X轴、Y轴、Tita角度实现的对位调整方式，可以想象对位不是很准确。 B 半主动：指。它是对齐的，可以通过电轴根据CCD进行放置和调整。
将直径为 400 μm 的 PET 纤维和玻璃纤维（~14 μm）暴露于处理能力为 100 W、总压力为 110 Pa、流量为 17 sccm O2 的低压氧等离子体中 8 分钟. ..在用等离子清洁器对材料表面进行等离子活化后，CCP去胶机器使用直接水平光学测量浸入蒸馏水中的纤维表面的接触角。
萘钠饰面与等离子外层改性 PTFE 材料的设计、印刷和附着力比较 萘钠饰面和等离子外层改性 PTFE 材料的设计、印刷和附着力比较： 等离子外层改性材料表面处理是一种物理性能的过渡和等离子体与PTFE外层的粒子发生复杂反应，CCP去胶设备破坏了PTFE外层的CF和CC键，产生大量氧自由基，同时引入一些特定的官能团，不断提高附着力PTFE材料的润滑性。
等离子表面处理器的功率整流器不需要VCC来提供电路转换所需的瞬态电流，CCP去胶电容对应的功率很小。因此，电源端和接地端的寄生电感被旁路，在这段时间内，没有电流流过寄生电感，因此不会产生感应电压。通常，将两个或多个电容器并联放置，以降低电容器本身的串联电感，从而降低电容器充电和放电回路的阻抗。注意：电容放置、器件间距、器件模式、电容选择。。
