1、CF4（四氟化碳）在plasma等离子清洗工艺中的作用 等离子体（plasma）被认为是继固态、液态和气态后的物质的第四态。等离子清洗技术其主要有3个作用：物理作用（刻蚀）、交联作用（激活键能）、化学作用（形成新的官能团）。不仅可以在材料表面进行均匀地刻蚀，还能在不改变材料整体性能的情况下，有效转变各类基材表面的亲疏水性能，通过转变材料表面的亲疏水性能，...
2、CF4（四氟化碳）O2（氧气）等离子清洗多层PCB软硬结合板连接通孔原理 等离子体是物质的一种存在状态，通常情况下物质以固态、液态、气态3种状态存在，但在一些特殊的情况下可以以第四种状态存在。这类物质所处的状态称为等离子体状态。等离子体中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；分子解离反应过程中生成的紫外线...
3、四氟化碳（CF4）等离子体表面活化法处理聚酰亚胺薄膜 等离子体表面活化法就是在非聚合性无机气体环境下利用低温等离子体技术在材料表面（几十到数千埃范围内）生成活性基团的方法。通过对聚酰亚胺的表面活化，打破聚酰亚胺分子机构并引入含氟基团，以达到降低材料介电常数和介电损耗的目的。处于等离子体气氛中的聚酰亚胺表面由于受到紫外辐照以及各种活性粒子如自由基、激发态...
