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接触孔技术工艺集成发展过程中的两个关键里程碑是之前的 COSI(钴)为 65NM 技术节点使用 NISI(镍金属硅化物)来降低接触电阻和信号金属硅化物)开始被用作接触金属。 延迟并使用来自 45NM 技术节点的高应力硅硅材料来提高器件性能并用作接触蚀刻停止层(CONTACT ETCH STOP LAYER,opp油墨附着力增进剂CESL)。

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从微观上分析,硅胶油墨附着力增进剂介质在密闭空间里通过强壮电弧的作用,使空气电离发生等离子体,激发出大量的高能电子,高能电子炮击废物废弃物,大分子量的废物废弃物发生杂乱的反应,然后降解成小分子量的H2、CH4和对人体危害较小的物质。2、等离子体废物处理工艺等离子废物处理体系首要包含进料体系、等离子体燃烧处理体系、熔化产品处理体系,烟气处理体系、余热利用体系、冷却密封体系组成。

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表面等离激元&基本原理表面等离激元场分布特征表面等离激元是由自由振动的电子和光子在金属表面相互作用产生的沿金属表面传播的电子密度波。其产生的物理原理如下:如图所示,在两个...

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1、对bopp附着力最好(聚氨酯对BOPP附着力)

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3、bopp光膜附着力(bopp薄膜高附着力涂层)