Lee等研究发现，对tpu附着力促进剂门状形态对TDDB也有影响，脚突出的门状形态比笔状更好TDDB栅极氧化层的性能很差的网格或凹网格,因为离子会通过大门进入栅氧化层伸出脚高能离子注入过程中等离子体的等离子体设备清洁,导致氧化层的破坏。
这些精细线路电子产品的生产与组装，对tpu的附着力对TO玻璃的表面清洁度要求很高，要求产品的可焊接性能好、焊接牢固、不能有任何有机与无机的物质残留在ITO玻璃上来阻止TO电极端子与IC BUMP的导通性，因此，对TO玻璃的清洁显得很重要。
在日前的ITO玻璃清洁T艺中，对tpu附着力促进剂大家都在尝试利用各种清洗剂(酒精清洗、棉签+柠檬水清洗、超声波清洗)进行清洗，但由于清洗剂的引入，会导致由于清洗剂的引入而带来其他的和关问题，因此,探索新的清洗方法成为各厂家的努力方向。通过逐步的试验，利用低温等离子发生器清洗的原理米对TTO玻璃进行表面清洁，是比较有效的清洁方法。
发现浇口形貌对TDDB也有影响，对tpu的附着力且有脚的浇口形貌多于有笔的浇口形貌对于直栅或凹栅，栅氧化层的TDDB性能较差，这是因为在等离子体清洗机的等离子体设备中高能离子注入时，离子会通过栅突引脚进入栅氧化层，导致氧化层损伤。李等人。发现栅氧化层击穿是由侧壁尺寸小引起的，而侧壁尺寸不均匀是导致栅氧化层击穿的主要原因。马赫什等人。
对tpu的附着力
LCD COG组装工...
