等离子清洗机的过载维护相关知识！ 等离子清洗机一般分为常压等离子体清洗机和真空等离子体清洗机。前者是在大气压下在开放空间或半关闭状态下放电，喷塑附着力标准而后者则需要在完全关闭的空间中进行真空处理，通过等离子体电离的微观剖析，无论以何种方式产生低压辉光，子孙的形成过程基本相同。物质从低能聚合物到高能量聚会体的转变将提供固体到液体或液体到气体的能量，当气体进一步从外部吸收能量时，就会得到分子热。运动进一步加强。
与标准逻辑工艺（45nm工艺节点）中小于200nm的接触孔深度相比，一般喷塑附着力标准是几级3D NAND的通道过孔深度超过400nm（早期的24层3D NAND结构）。当实现 128 个控制栅层时，通道过孔超过 1 μm。因此，沟道通孔蚀刻一般采用硬掩模工艺进行蚀刻。该过程通常使用等离子表面处理机、等离子清洁器和电感耦合等离子蚀刻 (ICP) 模型来完成。
