1、等离子体光子学（等离子体是如何产生的?PECVD是如何利用等离子体的） 无论是芯片源离子注入、晶体电镀，等离子体光子学还是低温等离子表面处理设备，都可以通过去除氧化膜、有机物、掩膜等对一侧进行超清洗。 , 提高湿度。在半导体工业的制造过程中，用等离子清洗机在硅片上的元件表面清洗由感光有机材料制成的光刻胶。在开始沉淀过程之前，应使用热硫酸和过氧化氢溶液或其他有毒有机溶剂对...
