污染物，具有阴离子基团的亲水性同时，氧离子可以将有机污染物氧化成二氧化碳和水蒸气，并将其排出机舱。等离子清洗不需要其他原料，除非空气、氧气、氢气、氮气等气体符合要求，使用方便且清洁。同时，它比其他清洁效果更好。等离子不仅可以进行表面清洁，更重要的是，它增强了表面活性。等离子体与物体表面之间的化学反应产生活性化学基团。由于它们的高活性，这些化学基团具有广泛的应用，例如提高材料的表面结合能力，提高焊接能力，结合。
等离子体的"活性"组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，基团的亲水性如何比较从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 等离子表面处理机体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。
就反应机理而言，具有阴离子基团的亲水性等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发成等离子体态；气相物质吸附在固体表面；吸附基团与固体表面分子反应形成产物分子；产物分子分解形成气相；反应残留物从表面除去。等离子清洗技术的最大特点是无论被处理对象的基材类型如何，都可以进行处理。它可以处理金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧，甚至聚四氟乙烯等，可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。
这说明空气等离子体表面处理能有效去除吸附在样品表面的污染物，基团的亲水性如何比较具有清洗表面的作用。随着清洗时间的延长，表面处理效果的退化称为表面处理...
