4、工作气体选择对真空等离子清洗设备清洗效果的影响：工艺气体的选择在真空等离子清洗设备的清洗工艺设计中很重要。大多数气体或气体混合物通常会去除污染物，玻璃油墨的附着力但净化率可能会相差数十倍。例如，将不同比例的六氟化硫 (SF6) 添加到氧气 (O2) 中，作为清洁有机玻璃的工艺气体。正确选择工艺气体可以显着提高清洁速度。。
等离子清洗主要用于基板表面的物理清洗和粗糙化。表面清洁不会导致精细电子设备的表面氧化。 为此，减反玻璃油墨附着力较低氩等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。用真空等离子清洁器电离氩气产生的等离子是深红色的。在相同的放电环境下，氢气和氮气产生的等离子体颜色为红色，但氩等离子体的亮度低于氮气，高于氢气。 (1)表面清洗A一般用于去除晶片、玻璃等带有颗粒的产品表面的过程。
蚀刻后夹层玻璃透过率的提高，减反玻璃油墨附着力较低是因为经过ECR等离子体蚀刻后，在夹层玻璃表面，出现了一种不均匀的纳米结构，即亚波长结构，小于可见光波长。这种结构在空气和夹层玻璃之间起到缓冲作用，完成折射率梯度变化，进而消除折射率突变的界面，从而达到减反射、防反射的效果。但当光线通过原夹层玻璃表层时，折射率的突变会引起大量反射，进而导致原夹层玻璃的透过率低。
形态；CHF3侧壁保护不完善；CF4气体可...
