等离子清洗机便是通过运用这些活性组分的性质来处理样品外表，附着力的标准示意图然后完成清洁、涂覆等意图。等离子体发生的条件：满足的反响气体和反响气压，反响产品须能高速撞击清洗物的外表，具有满足的能量供应，反响后所发生的物质必须是可挥发性的纤细结合物,以便于真空泵将其抽走，泵的容量和速度须满足大,以便敏捷排出反响的副产品,并且需求快速地再填充反响所需的气体。
真空等离子清洗系统的设备总体结构如下所示：真空等离子清洗系统各部分结构示意图1、触摸屏 2、控制按钮 3、等离子体发生器 4、机柜 5、真空腔体 6、真空计 7、电极板 8、馈电组件 9、真空电磁阀 10、流量计 11、电极板架 12、放气阀 13、真空泵真空腔体是真空等离子清洗系统关键结构部分,等离子体的产生,材料的清洗处理均在该腔体中完成。
等离子体的“活性”成分包括离子、电子、反应基团、激发核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗就是利用这些活性成分的特性对样品表面进行处理，附着力的标准示意图达到清洗、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗示意图 等离子处理过程中有两种清洗过程：化学反应和物理反应。 & EMSP; 化学工艺：在化学等离子工艺中，自由基分子与待清洁表面上的元素发生化学反应。在这些反应之后该产品是一种非常小的挥发性分子，可以用真空泵抽出。
【 蚀刻作用】蚀刻作用产品中高分子材料[C、H、O、N] 与等离子体[O+OF+CF3+CO+F + ……]发生化学反应从而达到清(除)残留污染物。【交联作用】• 交联作用是在惰性气体中进行。 单键被打断而重新组合，路面制动器和附着力的关系形成双...
