这是电晕处理和静电处理，双氧水对氮化硼表面改性电晕处理设备的电晕处理能力是有限的。因此，出厂前薄膜的最大系数值通常不超过42达因，电晕处理只会引起薄膜表面的物理变化。这种变化会随着时间而改变（达因值减小）。实际胶片在印刷厂实际使用时，胶片表面的达因值可能会下降到40达因以下。同样重要的是，如果打印机需要从薄膜供应商处获得双面电晕处理的薄膜，打印机通常会得到单面薄膜，因此薄膜贴在纸上后，表面达因值低，采用等离子喷涂。
典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，双氧水对氮化硼表面改性容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，从而去除表面污染物。
等离子清洗机是否可以去除表面油污：等离子清洗机、表面改性、蚀刻活化装置、等离子表面活化/清洗、等离子后键合耦合、等离子蚀刻/活化、等离子脱胶、等离子广泛应用于涂料（在某些情况下） ）。由于等离子灰化和表面改性等等离子处理可以提高材料表面的润湿性，双氧水对氮化硼表面改性因此可以对各种材料进行涂层、蚀刻、印刷等，同时去除有机污染物、油和油脂，可以增加粘合强度。
低温等离子体电源氢等离子体原位清洁硅衬底表面：硅表面清洁技术由衬底装人淀积系统之前的非原位表面清洁和外延前在淀积系统中的原位清洁两部分所组成。目前已在广泛使用的碱性和酸性双氧水清洗液能除去沾污在硅片表面的绝大多数金属离子及含碳基团，双氧水对氮化硼表面改性并形成一层几乎无碳的薄氧化层，这一薄氧化层起着十分重要的作用，它使得由大气中和系统中的含碳基团对硅表面的沾污降到低限度。。