采用高频等离子清洗机的Ar辉光放电，环氧附着力规范要求以小功率对样品表面进行清洗，去除表面的氧化层。接着，可以对硫元素进行加热，通过改变加热温度来适当调整真空室内的硫分压。然后通过Ar，利用Ar等离子体引导发射硫蒸气，产生硫等离子体并与台上的CaAs样品反应，在样品表面产生稳定的含硫化合物增加。要在较宽的范围内调节硫蒸气分压，调节真空挡板以适当控制真空系统的泵速，以保证足够稳定的硫蒸气浓度参与室增加。通过样品表面的反应。
然后通过Ar, Ar等离子体诱导硫蒸汽放电产生硫等离子体，含硫环氧附着力增进剂硫等离子体与加载平台上的CaAs样品反应，在样品表面生成稳定的含硫化合物。为了在更大范围内调节硫蒸气分压，我们通过调节真空挡板适当控制真空系统的抽真空速率，以保证腔内足够稳定的硫蒸气浓度参与样品表面反应。氩等离子体经射频等离子体清洗后，PL强度略高于未经处理的GaAs样品。
为了避免污垢对芯片加工性能的严重影响和缺陷，含硫环氧附着力增进剂半导体单晶硅片在制造过程中需要经历多个表面清洗步骤，等离子清洗机是单晶硅片光刻技术理想的清洗设备。单晶硅片清洗一般分为湿法清洗和干法清洗。等离子清洗机属于干洗，是清洗单晶硅的主要方式之一。等离子清洗机主要用于去除单晶硅表面肉眼看不见的表面污垢。对于单晶硅片这类高科技产品，对颗粒的要求非常高，一旦存在过量的颗粒可能会导致单晶硅片出现不可修复的缺陷。
锂电池采用新材料、新工艺制造产品，含硫环氧附着力增进剂安全风险小。因此，锂电池在手机和笔记本上的应用已经确立。目前，人们对锂电池在电动汽车上的应用前景十分看好。他对锂电池的安...
