等离子体清洗原理:等离子体是一种存在状态的物质，下列哪种反应使亲水性增加通常物质在固体、液体、气体三种状态下存在，但在某些特殊情况下还有第四种状态存在，如地球大气中的电离层中的物质。下列物质以等离子体状态存在:高速运动的电子;处于激活状态的中性原子、分子、自由基;电离的原子和分子;未反应的分子、原子等，但物质整体上保持电中性。
等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，下列哪种反应使亲水性增加但物质在总体上仍保持电中性状态。
蚀刻的试验：按照下列的参数进行: CF4+O2流量分别为300m/min、 500ml/min、 700m/min、 900ml/min.1 m/min、1300m/min; CF4: O2为0.5;蚀刻温度为: 150F; 蚀刻功率为: 2200W; 蚀刻时间为15min。
等离子清洗归于一种高精密的干式清洗方法,原理是在真空状态下运用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子,经过化学反应或物理作用对工件表面进行处理,完成分子水平的沾污去除(一般厚度为3~30nm),前进表面活性。对应不同的污染物,应选用不同的清洗工艺,抵达Z佳的清洗作用。
下列哪种反应使亲水性增加
我国真空等离子体设备市场正处于快...
