1、黏着力和附着力（义齿固位黏着力和附着力） 整个光刻的进程是这样的，义齿固位黏着力和附着力运用的时分，wafer（晶圆）被装到一个每分钟能转几千转的转盘上。几滴光刻胶溶液就被滴到旋转中的wafer的中心，离心力把溶液甩到外表的所有当地。光刻胶溶液黏着在wafer上构成一层均匀的薄膜。多余的溶液从旋转中的wafer上被甩掉。薄膜在几秒钟之内就缩...
