Ar/Cl等离子体的偏大的磁滞回线偏移量表明其下层固定层被严重腐蚀，国标规定腻子附着力是多少而CH3OH比Ar ICP更小的磁滞回线偏移量也表明了CH3OH等离子清洗机等离子体蚀刻中化学反应的存在。这种化学反应形成的含碳薄膜层可吸收入射离子能量，从而减少等离子体损伤(PID)。研究进步发现，反应式离子蚀刻引起的不可避免的材料磁性退化导致的磁阻率下降问题可以通过优化CH3OH/Ar比例来加以改善。
Ar/Cl等离子体的偏大的磁滞回线偏移量表明其下层固定层被严重腐蚀，国标规定腻子附着力是多少而CH3OH比Ar ICP更小的磁滞回线偏移量也表明了CH3OH等离子清洗机等离子体蚀刻中化学反应的存在。这种化学反应形成的含碳薄膜层可吸收入射离子能量，从而减少等离子体损伤(PID)。研究进步发现，反应式离子蚀刻引起的不可避免的材料磁性退化导致的磁阻率下降问题可以通过优化CH3OH/Ar比例来加以改善。
活化材料表面主要是清洁烃类，腻子附着力偏大所以化合物是亲脂性的，所以水滴角测试的角度会偏大(70°~&°)；等离子体处理后，等离子体中的离子或活性自由基容易与碳氢化合物反应生成挥发性碳氢化合物，如CO、CO2、CH4、CHxOy等，所以等离子体后水滴的角度会很小(10°～30°).2.等离子体清洗工艺研究在等离子清洗机清洗过程中，由于电极在电场作用下工作，电极前端的弧根消耗严重。
三通阀指向关闭状态（箭头向下），腻子附着力偏大此时一般在真空状态下操作A，首先通过电源，启动真空泵，见真空泵旋转方向为顺时针方向（测试后，关闭电源）；B、在真空泵与等离子清洗密封连接的前提...
