同时高活性的氧离子能够与被断键后的分子链发生化学反应形成活性基团的亲水表面，含有亲水性官能团的小分子达到表面活化的目的；被断键后的有机污染物的元素会与高活性的氧离子发生化学反应，形成CO、CO2、H2O等分子结构脱离表面，达到表面清洗的目的。氢气氢气与氧气类似，属于高活性气体，可以对表面进行活化及清洗。
等离子清洗机亲水原理：等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，亲水性官能单体或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。
等离子清洗过的 IC 可以显着提高键合线的强度并降低电路故障的可能性。残留的光刻胶、树脂、溶液残留物和其他有机污染物暴露在等离子区，亲水性官能单体可以在短时间内去除。手机摄像头模组支架等离子清洗：去除有机物，活化材料表面，提高亲水性和粘合...
