由于在实验条件下，宿迁金属附着力促进剂厂家未能得到CO2转化为C2烃的直接证据，可认为C2烃来源于甲烷的偶联反应：甲烷→0.5C2H6+0.5H2 ∆H11=32.55kJ/mol (4-2）甲烷→0.5C2H4+1H2 ∆H12=101.15kJ/mol （4-3）甲烷→0.5C2H2+1.5H2 ∆H13=188.25kJ/mol （4-4）将上述三个反应式耦合并考虑到C2烃产物分布，甲烷偶联形成C2烃总反应式可表示为甲烷→0.5n11C2H6+0.5n12C2H4+0.5n13C2H2+(2-1.5n11-n12-0.5n13)H2∆H1=(32.55n11+101.15n12+188.25n13)kJ/mol (4-5)式(4-5)中n11、n2、n3各是代表：n11为C2烃产物中C2H6的摩尔分数，mol/%；n12为C2烃。
“可以说，附着力促进剂 1688受中美贸易摩擦影响，部分进入海外的日本企业无法预测与中国企业的经营业绩，前景不明朗，落后于海外竞争对手。”因此， “日本政府的指导方针是先决条件。”写在 Z 之后相关资料显示，在1988年和1989年的鼎盛时期，日本的半导体产业占据了世界的半壁江山，仅次于欧美。前10名企业中，日本占有6席，NEC、东芝、日立分列前三。
公司依托自身在等离子表面处理设备制造业十多年的经验以及同国际知名等离子相关配件厂商的良好合作，宿迁金属附着力促进剂厂家设计开发出BP-880系列真空
