文献报道的高氧离子浓度为2.1x10."7/cm3[4.51。预电离低温等离子体用于还原（还原）O2由于预电离导致放电中断和维持电压，常见的表面改性的方法从而增加了等离子射流中 O2 的流量，氧离子的浓度可以达到 9.8 x 107 / cm3 [6]]，使用具有这种高化学活性的冷等离子射流.，清洗被润滑油和硬脂酸污染的玻璃面板，讨论清洗效果（效果）。润滑剂和硬脂酸是手机玻璃表面常见的污染物。
等离子表面处理设备电极板不对称时如何实现等离子刻蚀？等离子体表面处理设备进行蚀刻处理，常见的表面改性技术在半导体行业较为常见，引入的气体一般为特殊工艺气体，可产生腐蚀性等离子体群，不需要掩膜即可与硅片或其他相关产品表面发生反应，蚀刻出所需电路。在此过程中，应注意电极压降的标定，以控制离子能量。下图为阴极和阳极极板面积不对称时等离子体表面处理设备的放电图。
在离子发生室中，常见的表面改性技术将待清洗的工件置于工艺室内，将气相冲击粒子、原子团、光子等引入工艺室内，对工件进行清洗，基本去除离子和电子。 2.45GHZ下游等离子型是封装等离子清洗的主要形式，适用于清洗有机物。 3.5 激励频率的分类等离子电源有三种常见的激励频率。激发频率为40KHZ的等离子体为超声波等离子体，反应为物理反应，清洗系统离子密度低，等离子体为13.56MHZ。
