活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用，附着力促进剂作用使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗目的。
CF4和O2进入等离子装置的真空室后，徐州附着力促进剂作用机理CF4和O2气体在等离子发生器的高频高压电场作用下发生解离或相互作用，形成含有游离态的等离子气体气氛。自由基。增加。 , 原子, 分子, 电子: O2 + CF2 & RARR; O + OF + CO + COF + F + E + 等离子体中的自由基和阳离子是上述高分子有机材料(C, H, O, N) 它发生化学反应。孔壁。
通过在微观层面上的一系列物理化学作用，附着力促进剂作用等离子的表面清洗作用能够获得精细的高品质表面。
气体的反应机理不同，附着力促进剂作用活性气体的等离子体具有很强的化学反应性。具有不同性质的气体有不同的污染物选择用于清洁。当一种气体被一种或多种附加气体渗透时，这些元素的组合提供了所需的蚀刻和清洁效果。在等离子体中的离子或高活性原子的帮助下，表面污染物被清除或形成挥发性气体。通过真空系统去除挥发性气体，达到清洁表面的目的。
附着力促进剂作用
反应残渣从表面脱落。典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体清洗的机理主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。等离子体产生的氧自由基具有很强的活性，容易与碳氢...
