已发现表面层中杂质 C 的存在是制造半导体 MOS 器件或欧姆接触的主要障碍。欧姆接触和MOS器件的性能。发现等离子处理后CI的高能尾消失，提高消失模涂膜附着力未经等离子处理的SiC表面的Cls峰与等离子处理后的Cls相比偏移了0.4 ev。这是由 C/ 的存在引起的。表面 CH 化合物。无氢等离子表面处理装置处理后的Si-C/Si-O的峰强度比(面积比)为0.87。
例如，提高消失模涂膜附着力与干热灭菌或高压蒸汽灭菌相比的消毒细菌消耗时间会更短。与化学灭菌法相比，它具有低温的优点，可用于各种物品和材料。更安全，更可靠，更有价值，因为各种活性颗粒在几秒钟内迅速消失，不需要特殊的通风并且不会伤害操作者，特别是在断电后。冷等离子体的电离率低，电子温度远高于离子温度，离子温度甚至可以与室温媲美。因此，冷等离子体是一种非热平衡等离子体。
2.等离子体由电子、离子、自由基、激发分子和原子、基态分子和光子组成。虽然它表面上看起来是电中性的，消失模涂料附着力差但实际上它内部具有很强的电、化学和热效应。 3、真空等离子清洗机产生的等离子为非平衡等离子气体的温度远低于电子的温度，电子的质量也很小，但电子的温度还是几万度。在这种情况下，等离子体产生过程中的消失、碰撞、辐射、耦合等。产生大量热量，真空泵抽出一小部分热量，其中大部分留在真空反应室中。
随着低温等离子体技术的发展和清洗设备的发展，消失模涂料附着力差特别是常压在线连续等离子体装置...
