在集成电路工艺生产过程中，无锡真空等离子清洗机价格晶圆集成ic表面会存有各类颗粒、金属离子、有机物及残余等脏污杂物，为规避污染源对集成ic处理性能造成严重影响及缺陷，在保证不破坏集成ic处理及其他表面特性的前提下，半导体晶圆在制造的过程中，须要经过多次的表面清洗步骤，而等离子清洗机是晶圆光刻胶的理想清洗设备。
直径为400μm的PET纤维和玻璃纤维（?14μm）暴露于低压氧等离子体，无锡真空在线式等离子清洗机处理功率 W，总气压110Pa，17sccm O2流量，处理时间8min。 等离子清洗机对材料表面进行等离子活化后，使用直接水平光学方法对浸没在蒸馏水中的纤维表面进行接触角测量。
与传统植绒选用的使用溶剂型胶水处理相比，无锡真空在线式等离子清洗机等离子清洗机表面处理方式具有以下优势：1、能够满足条状、平面、曲面、箱体等多种不规则形状的处理要求，处理更为均匀，不会出现大面积倒伏和色差问题。2、使用操作安全、无环境污染、无有害气体。3、无挥发的刺激性气体，不会影响操作人员的身体健康。
然而等离子清洗系统大气压等离子体体系温度可以通过研究气体分子的转动温度实现。采用发射光谱来采集等离子体的气体温度数据是一种比较方便、可行的方法，无锡
