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日光蚀刻法原理图

基本上分为常压和真空。常压的工作原理是利用大气而不是其他气体。他的喷枪头里有电极。通电后,尼埃普斯的日光蚀刻法的过程他会放电产生等离子体,然后到大气中把等离子体吹出来。原则就是这样。它的优点是可以在线操作,固定在生产线上。当产品流过时,它直接用喷涂的等离子体对产品做一个表面处理。

日光蚀刻摄影法原理

如果等离子体与固体材料(如塑料、金属)接触,尼埃普斯的日光蚀刻法的过程其能量会作用于固体表面,引起物体表面重要性质(如表面能)的变化。在各种制造应用中,这一原理可用于有选择地修饰材料的表面性质。利用等离子体能量对物体表面进行处理,可以准确、有针对性地提高材料表面的附着力和润湿性。这样便于在工业上使用新型(甚至完全非极性)材料,以及环保、无溶剂、无挥发性有机化合物的涂料胶粘剂。目前,许多化学表面处理工艺可以被等离子体处理技术所取代。

许多亲水性基团,尼埃普斯的日光蚀刻法的过程如羟基、羧基、氨基、磺酸基等,容易与氢键结合,因此具有亲水性。从上面文章对亲水性原理的描述中,我们可以清楚地看到,由于材料表面存在亲水性基团,这些亲水性基团很容易与氢键结合,因此是亲水性的。很容易解释为什么等离子体清洗使材料表面亲水性。

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尼埃普斯的日光蚀刻法的过程

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