等离子清洗技术始于20世纪初，有机玻璃表面改性硅胶的作用推动了半导体和光电子产业的快速发展，已广泛应用于精密机械、汽车制造、航空航天和污染控制等高科技领域。等离子清洗技术的关键是低温等离子的应用，主要取决于高温、高频、高能等外部条件。等离子清洗技术的能量约为几十电子伏特，其中所含的离子、电子、自由基等活性粒子与固体表面的污染物分子发生反应而分离，易于清洗。角色。同时，冷等离子体的能量要低得多。
等离子体工业洗衣机铝金属腐蚀后,需要一个好的控制铝金属腐蚀,腐蚀过程中的任何残留的副产品有攻击(主要含有氯成分,在大气环境中氯离子可以与水中的气体反应生成盐酸腐蚀强,他们可以快速反应,对金属，表面改性气硅铝的腐蚀作用)，必须迅速从硅片表面去除。
用等离子表面处理机制备纳米粉末与其他方法相比具有许多优点。氧化铋是一种重要的功能性粉体材料，有机玻璃表面改性硅胶的作用主要应用于无机合成、电子陶瓷、化学试剂等领域。用于制造陶瓷电容器，也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等电子陶瓷元件。由于纳米氧化铋的粒径更细，除了普通粒径氧化铋粉体的性能和应用外，电子材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极线管内壁、涂料等。因此，纳米Bi:O3制备方法及应用的探索引起了国内外研究人员的广泛兴趣。
(3)·O、·OH、·HO2与激起原子、有机物分子、破碎的基团、其他自由基等发生一系列反响，表面改性气硅有机物分子终究被氧化降解为CO、CO2、H2O;恶臭组分通过处理后，终究转变为SO3、NOx、CO2、H2O等小分子，因为产物浓度极低，均能被周边的大气所接受，因此无二次污染。
