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为了避免污物对芯片处理性能的严重影响和缺陷,有超强附着力的怪兽有哪些半导体单晶硅片在制造过程中需要经过多次外表清洗步骤,而等离子体清洗机是单晶硅片光刻技术的很理想清洗设备。单晶硅片清洗一般分为湿法清洗和干法清洗。等离子清洗机属于干式清洗,是单晶硅片清洗的主要方式之一。等离子清洗机主要用于去除单晶硅片外表肉眼看不见的外表污物。对于单晶硅片这种高科技产品,对颗粒的要求极高,一旦有超标颗粒的存在都可能导致单晶硅片不可挽回的缺陷。

等离子清洗机外接一台真空泵,强附着力树脂 耐盐工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。

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