施加合适的功率后，阳极氧化增加丝印附着力被引入的气体在电极之间击穿电离后形成冷等离子体束流并均匀向下喷出。选用氩气以及无腐蚀无毒性的SF6气体，喷口的直径为10mm，喷出束流的长度范围是5~ 20mm，该束流长度取决于放电功率的大小和进气量的大小。用常压射频冷等离子体设备对单晶硅进行刻蚀的工艺表明：(1)刻蚀速率与输入功率几乎成线性正比关系;刻蚀速率与衬底温度也基本呈线性增加的关系。
增加 5 mTorr 或更高表示真空组件或连接故障。大约需要 10 个组件或连接来维持异丙醇的流动以检测小泄漏。小泄漏不显示快速润湿。运行异丙醇会覆盖整个相关组件，阳极氧化增加丝印附着力使用异丙醇时，应避开标记区域。9.3.3 清洁反应室 用户应每天检查是否有污垢和异物。清洁机房时戴上手套和护目镜 警告：清洁机房后，务必产生纯氩气或氧气等离子。这些应在高功率下移除至少 15 分钟。确保洁净室内没有视觉标志。
因此，增加丝印附着力在应用该工艺时，需要增加静电去除装置。使用这种清洗形式后，提高了电极端子与显示面板的粘附成品率，大大提高了电极点与电膜的粘附性。当表面污垢以油污为主时，氧离子清洗对其他机加工电子元器件尤其有效。等离子体清洗技术在电子工业特别是微电子工业中具有广阔的应用前景。例如微结构电子电路的腐蚀、光致防腐膜的清洗等。在等离子体设备清洗技术中，可以利用尖端部分绝缘层等各种薄膜的覆盖能力。
40KHZ、13.56MHZ、2.45GHZ 和 13.56MHZ 需要功率匹配器。 2.45GHZ又称微波等离子B：系统控制单元：按键控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC控制（液晶触摸屏控制2.真空室：不锈钢）将真空泵：干式和油泵的真空腔体设置灵活，阳极氧化增加丝印附着力腔体有可调节的层板槽，每个槽内的板可根据需要独立设置阳极和阴极。板之间的距离也可以根据需要进行调整，以达到不同的工艺效果。
