在等离子体环境中，氧化硅和氧化铝的亲水性由于放电产生大量的离子和电子，离子由于电极电势或等离子体自偏压的作用而被加速并向晶圆表面运动， 它们对衬底产生物理轰击并促进了表面的化学反应。这些离子和电子电流被暴露于等离子体中的金属收集，聚集在多晶硅或铝的栅电极，这时金属层的功能就是个“天线”，栅氧化层可以看作一个电容，当栅上收集的电荷越来越多时，栅压越来越高，会引起栅氧化层产生FN隧穿。
这不仅解决了上盒、上盒生产过程中的难题，氧化硅和氧化铝的亲水性也为企业的技术、效率和质量提供了更好的保障。在消费电子和数码行业，它主要用于 等离子清洗机，用于粘合、涂层和溅射等工艺。本产品主要用于金属与玻璃的连接、玻璃与不锈钢的连接、平板玻璃陶瓷与铝的连接、不锈钢、铝合金及电镀表面的连接。
等离子清洗机厂家处理金属铝的例子：等离子清洗机主要依靠等离子体中的电子、离子、激发原子、自由基等活性离子的活化，氧化硅和氧化铝的亲水性是金属表面的高分子有机污染物。逐渐分解产生稳定的挥发物。附着在表面的有机物和小分子被完全分离去除。同时，等离子清洗可以显着提高金属表面的附着力和表面润湿性，这些性能的提高进一步加速了金属材料的发展。同时，表面处理也非常有利。
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