等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用：等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，氧化镁的亲水性用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。
通过等离子清洗机的表面处理，氧化镁的亲水性能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂，等离子体清洗机可以不分处理对象，它可以处理各种各样的材质，无论是金属、半导体、氧化物，还是高分子材料都可以使用等离子体清洗机来处理， 等离子清洗机无需使用危险的化学溶剂。
二、PCB加工中的等离子清洗设备应用在这一应用的方向上，怎么提高氧化镁的亲水性等离子处理设备常用于去除高纵横比FR-4硬板微孔内的胶渣、去除高TG硬板内的胶渣。等离子清洗设备所产生的等离子体能渗入细微孔内部，胶...
