正是由于晶圆清洗是半导体制造工艺中重要且频繁的一步，海口在线等离子清洗机其工艺质量将直接影响设备的良品率、功能和可靠性，因此国内外各大公司和研究机构对清洗工艺的研究不断进行。等离子清洗作为一种先进的干洗技能，具有绿色环保的特点。随着微电子工业的迅速发展，等离子体清洗机在半导体工业中的应用也越来越多。半导体的污染与分类半导体的制造需要一些有机和无机物。否则，由于工艺始终由人在净化室进行，半导体晶圆不可避免地受到各种杂质的污染。
但这种工艺会在沟槽表面形成较厚的氧化硅层。如前所述，海口在线式等离子清洗设备厂商去除灰化产生的氧化硅层的过程也会对浅沟槽隔离氧化硅层造成损伤，影响器件性能，因此氧化灰化工艺不适用于锗硅工艺。。等离子清洗机设备的表面处理技术用途广泛：由于对工业产品质量和环境保护的要求越来越高，等离子清洗机等高科技设备已成为许多工业产品的必需品。随着市场对材料的需求越来越大，生产过程中出现的问题也越来越多。
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