随着微电子技术的发展，金属表面喷砂处理等离子体清洗的优势越来越明显。介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了其清洗原理和优化设计方法。然后分析了等离子体清洗工艺的关键技术和解决方案。等离子体清洗的特点是无论被处理对象的衬底类型如何，都可以进行处理，还可以很好地处理金属、半导体、氧化物、有机材料和大多数高分子材料，只需要很低的气体流量，可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。
等离子体处理器表面处理所用的工艺气体有氧气、氩气、氮气、压缩空气氢气、四氟化碳等，金属表面喷砂处理常用的有氧气、氢气和氮气。等离子体处理器技术选择的气体就是这三种工艺气体。我们应该注意些什么？怎么选？1.所选气体为氧气：氧主要用于高分子材料的表面活化和有机污染物的去除，但不能用于金属表面的易氧化。
实施例1:O2+e&Rarr；2O*+E-O*+有机物&RARR；CO2+H2O从反应公式中可以看出，金属表面喷砂处理氧等离子体可以通过化学反应将非挥发性有机物转变为挥发性的H2O和CO2。实施例2:H2+e&Rarr；2H*+E-H*+非挥发性金属氧化物；RARR；金属+H2O从反应公式可以看出，氢等离子体可以通过化学反应去除金属表面的氧化层，清洁金属表面。
真空等离子体处理设备的特点具有稳定、性价比高、操作简单、使用成本极低、易于维护等特点。对金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等各种几何形状、不同外表面粗糙度的物体外表面进行超清洗改性，金属表面涂层处理去除物体外表面有机污染物，定期快速处理，清洗效率高，绿色环保，不使用化学溶剂，对物体和环境无二次污染，常温超级清洗，对物体无损处理。
金属表面涂层处理
