例如，naclo2 煤表面改性在微列阵工业，氨基可以为工作表面提供可直接黏附核苷（DNA或RNA）和寡核苷酸的粘结点。如果原子间的排列空间阻碍了结合这些大生物分子，这时可以使用原分子，有时也叫做“键合”。键合可以使生物分子以适当的结构吸附在表面提供空间。确实，键合分子本身也需要表面被活化以帮助它们固着在基体上。通常，氧气等离子体的直接作用就可以满足改善这些分子的结合效果。尽管如此，有时也需要一些特定的官能团。
膜具有很强的荧光背景，煤表面改性降低对甲烷吸附过去需要使用同位素检测，并不为人们所偏好。等离子体诱导接枝是近年来出现的一种新的实施方式，它允许通过辉光放电在短时间内（几秒到几分钟）形成等离子体，并将所需的官能团直接接枝到膜上。与传统方法相比，具有工艺简单、操作方便、基膜和接枝单体选择范围广等优点。我们选择了一种微孔PP聚丙烯薄膜作为原位生成DNA芯片的载体，并在H2和N2的混合气氛中开始对薄膜进行等离子体处理。
所以沟道通孔蚀刻普遍采用硬掩膜工艺蚀刻。通常使用等离子表面处理机等离子清洗机感应耦合等离子蚀刻(ICP)机型完成此工艺。根据3D NAND结构差异(主要为控制栅层数的差别)，煤表面改性硬掩膜材料主要为无定形碳。蚀刻气体采用O2为主或者N2/H2组合气体为主。掩膜蚀刻的控制需求主要包括:①图形传递准确度。避免蚀刻过程中产生图形变形导致沟道通孔...