我们深信等离子技术应用范围会越来越广；技术的成熟，环氧基团增强附着力成本的降低，其应用会更加普及。。真空等离子表面处理工艺中为何要使用冷却水： 工艺冷却水是工业生产中常用的控温介质，其应用十分广泛，根据使用种类主要分为无尘车间冷却、过程设备冷却、生产过程冷却等，在真空等离子清洗机表面处理中的应用可归结为工艺过程设备冷却。
对于那些寻求先进工艺节点芯片生产方案的制造商来说，环氧基团增强附着力有效的无损清洁将是一个重大挑战，尤其是10nm、7nm甚致更小的芯片。为了扩展摩尔定律，芯片制造商必须能够从不仅平坦的晶圆表面除去更小的随机缺陷，而且还要能够适应更复杂、更精细的3D芯片架构，以免造成损害或材料损失，从而降(低)产量和利润。
在所有这些清洁过程中，为何环氧基团能提高附着力碳氢化合物和基材之间的结合被削弱，获得的能量将这些有机复合物与基材分离。一旦从（有机）化合物的分子组中分离出来，它们就会被惰性气体除去。光照射、中性粒子流和等离子体产生的带电粒子的影响相结合键的断裂提供能量。这种能量首先被碳氢化合物吸收，然后在各种形式的二次过程中消散。正是这些各种形式的二次加工，达到了表面清洁的效果。
