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甲基硅树脂附着力

CH4 + e * —> CH3 + H + e (3-1) CH3 + e * —> CH2 + H + e (3-2) CH2 + e * —> CH + H + e(3-3) CH + e * —> C + H + e (3-4) CH4 + e * —> CH2 + 2H (H2) + e (3-5) CH4 + e * —> CH + 3H (H2 + H) + e (3-6) CH4 + e * —C + 4H (2H2) + e (3-7)自由基之间发生偶联反应,甲基硅树脂附着力促进剂产生以下产物(M是前三个,反应器壁等): CH3 + CH3 + M—> C2H2 + M (3-8) CH2 + CH2 + M—> C2H4 + M (3-9) CH3 + CH2 + M—> C2H4 + H + M (3-10) CH + CH + M—> C2H2 + M (3-11) CH + CH2 + M—> C2H2 + H + M (3-12) CH3 + C + M—> C2H2 + H + M (3-13)由于系统中高浓度的粒子是甲烷分子,甲烷分子与各种甲基自由基的碰撞会触发新的自由基并产生各种C2烃。

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常压等离子清洗机是基于等离子的可控特性,甲基硅树脂附着力促进剂采用单喷嘴或多喷嘴来处理物体。这主要适用于工业部门。常压等离子清洗机清洗特点: 1.数控技术使用方便,自动化程度高,控制装置精度高,时间控制精度高...

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2、表面改性的目的和意义(六甲基二硅氮烷表面改性)

3、苯的亲水性(甲基环己烷与甲苯的亲水性)偶氮苯的亲水性