如何选择等离子清洗的工艺气体等离子清洗机常用的工艺气体有氧气、氩气、氮气、压缩空气、二氧化碳、氢气和四氟化碳。它将气体电离以产生等离子体并处理工件的表面。无论是清洗还是表面活化，二氧化硅基亲水性处理都使用了多种工艺气体，以达到最佳的处理效果。等离子清洗常用工艺气体选择方法本文分享相关基础知识，供参考。氧气 氧气是等离子清洗中常用的一种活性气体，属于物理+化学处理方法。电离后产生的离子可以物理冲击表面，形成粗糙表面。
双层瓷器外壳等离子体设备的镀铬工艺： 在等离子设备的清理过程中，二氧化硅基亲水性处理氧气变成含有氧原子自由基、激发态氧分子、电子等颗粒的等离子体。如此一来的等离子体与固态表层的反應可分为物理反应(离子轰击)和反應。物理反应机理是活性颗粒轰击待清理表层，使废弃物从表层分离，被真空泵吸走。反應机理是O活性颗粒将有机物氧化成水和二氧化碳分子，从表层清除(去除)。采用O2作为清理气体清理Ag72cu28焊料等离子设备，可操作性显著。
射频等离子清洗物理清洗和化学清洗兼具等离子清洗用氧气会被激发成活性粒子，二氧化硅基亲水性处理其主要祛除的是有机物如油脂等。这些活跃粒子与待清洗器件的杂质生成化学反应，变成易挥发的、极小的如水分子、二氧化碳分子等，然后被抽真空泵排出。氧气等离子清洗的致命缺点是清洗完的器件容易生成新的氧化物，变成二次污染。氩气等离子清洗是用氩分子快速冲撞待清洗器件表面，靠其速度快、能量高使杂质脱离器件表面。
等离子体的表表面处理仪对表面进行清洁，二氧化硅基亲水性处理可以去除表面上的脱模剂和助剂，并对其进行活化处理，可以保证后续...
