在硅衬底上热生长的SiO2薄膜经过等离子清洗机的等离子表面处理，二氧化硅表面改性巯基提高了二氧化硅薄膜驻极体的稳定电荷积累。有机高分子驻极体材料具有优异的电荷储存稳定性，市面上的驻极体传感器多为有机高分子驻极体薄膜传感器。该传感器虽然具有寿命长、薄膜型、成本低等优点，但体积庞大的分立器件，无法满足驻极体声学传感器小型化和集成化的要求。近年来，人们发现二氧化硅（SiO2）薄膜表现出优异的驻极体性能。
等离子清洗机的等离子体是第四种不同于固体、液体和气体的物质形式。它由六种典型的粒子组成，二氧化硅表面改性巯基包括正离子、负离子、电子、激发分子和原子、基态分子或原子和光子。电浆清洗机，在工作中产生大量氧原子等氧基活性物质。当这些氧基等离子体喷射到材料表面时，它们可以与基材表面的有机污染物碳分子分离，成为二氧化碳后被去除。同时，有效提高了材料的表面接触性能，增强了强度和可靠性。
RF等离子体（激发频率，二氧化硅离子表面改性13.56MHz）包括物理化学双反应类型。 (2)工作气体的种类也影响等离子清洗的种类。例如，通常采用Ar2、N2等形成的等离子体进行物理清洗，通过冲击对产品表面进行清洗。反应气体 O2、H2 等等离子通常用于化学清洁，其中活性自由基与污染物（主要是碳氢化合物）发生反应。它反应形成小分子，如一氧化碳、二氧化碳和水，这些小分子会从产品表面去除。
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