当我的朋友看到所有的进口等离子设备时，纯干痒氧化硅片亲水性他决心要提高芯片制造行业的技术能力，让企业不再受别人的控制。由于这一信念，一直致力于成为国内芯片制造行业等离子清洗设备的服务商。努力偿还。上述晶圆封装企业在扩大生产时再次选择多参与生产流程。从前段硅片清洗到后段光刻胶残留去除，整个芯片制造过程选用等离子设备，打破了进口设备的垄断。此后，幸运与多家芯片制造商合作。
湿法蚀刻是一种常用的化学清洗方法。其主要目的是将硅片表面的掩模图案正确复制到涂有粘合剂的硅片上，纯干痒氧化硅片亲水性以保护硅片的特殊区域。自半导体制造开始以来，硅片制造和湿法蚀刻系统一直密切相关。目前的湿法蚀刻系统主要用于残渣去除、浮硅、大图案蚀刻等。具有设备简单、材料选择性高、对器件损伤小等优点。湿法刻蚀工艺具有温度低、效率高、成本低的优点。湿法刻蚀工艺可以有效去除硅片上的磷硅玻璃和金属离子，一次完成钝化和清洗。
2.等离子清洗机表面改性（改性）聚四氟乙烯（Teflon）高频微波板沉铜前的孔壁：提高孔壁与镀铜层的粘合强度，纯干痒氧化硅片亲水性防止黑孔、爆孔等。 ..激活阻焊和字符前面板：有效防止阻焊字符脱落。 3.材料行业：PI表面粗化、PPS刻蚀、半导体硅片PN结去除、ITO薄膜刻蚀、ITO镀膜前用等离子清洗剂进行表面清洗以提高表面附着力和表面附着力、镀膜可靠性和耐久性..四。陶瓷行业：等离子清...