1、硅的表面改性（气相法二氧化硅的表面改性）纯硅的表面改性 这些能量活性粒子在蚀刻过程中起着重要作用。与蚀刻前蚀刻相比，气相法二氧化硅的表面改性表面质量较低并分析原因。 ICP蚀刻辉光放电产生的活性粒子在基板表面扩散，引起化学反应，是挥发性产物，来不及解吸沉积在基板表面。此外，一些离子会物理冲击并破坏基板。表面网格排列会导致基材表面出现孔洞和点蚀，降低材料的...
